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產(chǎn)品型號(hào)： DH-500JJC
所屬分類：電阻測(cè)量?jī)x
產(chǎn)品時(shí)間：2016-08-25
簡(jiǎn)要描述：DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機(jī)DH500JJC生產(chǎn)廠家該鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn)，可制備納米級(jí)和微米級(jí)的單層及多層功能膜-各種硬質(zhì)膜、光學(xué)膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機(jī)DH500JJC生產(chǎn)廠家
該鍍膜機(jī)主要用于科研實(shí)驗(yàn)，可制備納米級(jí)和微米級(jí)的單層及多層功能膜-各種硬質(zhì)膜、光學(xué)膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
該鍍膜機(jī)為前開門式設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)、鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定、重復(fù)性好、操作簡(jiǎn)便。真空室材料均采用優(yōu)良材質(zhì)SUS304 不銹鋼材料制造，工藝規(guī)范、精致，保證了材料的成膜純度。
采用分子泵+直聯(lián)機(jī)械泵機(jī)組，具有抽速快、無(wú)油、操作方便快捷、易于維護(hù)的特點(diǎn)。
◆ 鍍膜方式：可實(shí)現(xiàn)多靶共濺模式；
◆ 磁控靶：圓柱/平面靶；
◆ 進(jìn)氣系統(tǒng)：三路質(zhì)量流量計(jì)；
◆ 鍍膜室體積：500mm*500mm*600mm；
◆ 極限真空度：5X10-5 Pa，恢復(fù)真空：從大氣抽至6.7X10-4 Pa （40分鐘）；
◆ 真空抽氣系統(tǒng)：機(jī)械泵與分子泵組成；
◆ 真空測(cè)量系統(tǒng)：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
◆ 工作電源：直流電源500W；射頻電源500W（13.56MHz）；加熱控溫電源；
◆ 工件烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(diào)(PID控溫)；
◆ 選配件：石英晶振測(cè)厚儀、冷卻水機(jī)組等；
◆ 供電電源：三相AC380V，50Hz。
◆ 特殊規(guī)格可定制。
DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機(jī)DH500JJC生產(chǎn)廠家
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